%0 Journal Article
%T 氮化钽薄膜的制备与结构研究
%A 冷永祥
%A 黄楠
%A 杨萍
%J 材料工程
%D 1998
%X 利用磁控反应溅射技术制备了氮化钽薄膜,利用TEM、XRD技术研究了薄膜的微观结构.研究结果表明薄膜中多相共存;薄膜晶粒细小(16nm左右);同时还发现,在一定工作压力下,随着氮分压的提高,氮化物晶粒形成的取向改变,即平行于基体表面生长的晶面会有改变.一定工作压力下,制备的氮化钽薄膜硬度高达4000kg/mm2以上.本文探讨了氮化钽薄膜高硬度的原因,并且讨论了随氮分压的提高薄膜织构变化的原因.
%K 氮化钽
%K 薄膜
%K 硬度
%K 显微组织
%U http://jme.biam.ac.cn/CN/Y1998/V0/I9/18