%0 Journal Article
%T 射频反应溅射(Al,Ti)N涂层的微结构与力学性能
%A 赵文济
%A 梅芳华
%A 董云杉
%A 李戈扬
%J 材料工程
%P 48-52
%D 2005
%X 采用Al-Ti镶嵌复合靶在不同氮分压下制备了一系列(Al,Ti)N涂层,并采用EDS,AFM,XRD,TEM和微力学探针表征了涂层的沉积速率、化学成分、微结构和力学性能,研究了氮分压对涂层的影响。结果表明,氮分压对(Al,Ti)N涂层影响显著合适的氮分压可以得到化学计量比的(Al,Ti)N涂层,涂层为单相组织,并呈现(111)择优取向,最高硬度和弹性模量分别达到36.9GPa和476GPa。过低的氮分压不但会造成涂层贫氮,而且涂层中的Al含量偏低,硬度不高。氮分压过高,由于存在“靶中毒”现象,尽管涂层的成分无明显变化,但会大大降低其沉积速率,并使涂层形成纳米晶或非晶态结构,涂层的硬度也较低。
%K (Al
%K Ti)N涂层
%K 反应溅射
%K 微结构
%K 力学性能
%U http://jme.biam.ac.cn/CN/Y2005/V0/I9/48