%0 Journal Article
%T 磁控溅射制备掺银TiO2薄膜的光催化特性研究
%A 邱成军
%A 曹茂盛
%A 张辉军
%A 刘红梅
%A 田风军
%A 刘鑫
%J 材料工程
%D 2005
%X 利用交流磁控溅射设备采用金属Ti靶在石英和硅衬底制备掺银TiO2薄膜,并利用SEM,XRD及吸收光谱等方法分析测试TiO2薄膜的性质,探讨了掺银对TiO2薄膜吸收光谱的影响。并通过对甲基橙溶液浓度变化研究了掺银TiO2薄膜光催化特性,分析了掺银对TiO2薄膜增强光催化作用的工作机理,研究结果表明掺银有利于TiO2薄膜对有机物的降解作用。
%K 薄膜
%K 锐钛矿相
%K 射频磁控溅射
%K 光催化活性
%U http://jme.biam.ac.cn/CN/Y2005/V0/I10/35