%0 Journal Article
%T MoS2/Zr复合薄膜的制备及性能研究
%A 宋文龙
%A 邓建新
%A 张辉
%J 材料工程
%D 2007
%X 采用新型中频磁控溅射技术及多弧离子镀相结合的复合镀膜工艺,在硬质合金YT14基体上制备了MoS2/Zr复合薄膜。采用扫描电子显微镜(SEM)考察MoS2/Zr复合薄膜表面及截面的形貌,利用能谱分析(EDX)薄膜的成分组成。测试涂层的厚度、显微硬度及涂层与基体之间的结合力等性能参数。结果表明制备的MoS2/Zr复合薄膜结构致密,结合力约为60N,厚度约为2.6μm,硬度约为HV800。
%K 涂层刀具
%K MoS2软涂层
%K 中频磁控溅射
%K MoS2/Zr复合薄膜
%U http://jme.biam.ac.cn/CN/Y2007/V0/I12/39