%0 Journal Article
%T 用于分离CH4/CO2疏水性SiO2膜的制备
%A 李文秀
%A 葛珂宁
%A 张兵
%A 陈立峰
%A 张志刚
%J 材料工程
%P 78-82
%D 2013
%R 10.3969/j.issn.1001-4381.2013.02.016
%X 分别采用KH-570,KH-560和A-151代替部分TEOS作为前驱体,通过溶胶-凝胶法制备了疏水性SiO2气体分离膜,利用IR,BET,TG,SEM以及接触角测试仪等对其进行了表征,并对(0.8KH-570)SiO2膜进行了CH4/CO2气体渗透性能评价。结果表明,当A-151,KH-570和KH-560与TEOS的摩尔比均为0.8时,膜的接触角分别从28.6°增大到97.8,94.2°和90.7°。膜样品的疏水性增强,修饰后的膜孔径分布更加狭窄,平均孔径减小,抵抗水蒸汽的能力明显增强;膜层无开裂,表面完整。其中,KH-570修饰的膜性能较好,在n(KH-570)/n(TEOS)=0.8时,压力为30kPa的条件下,(0.8KH-570)SiO2膜对CH4/CO2的分离因子为2.13,大于纯SiO2膜的分离因子(1.58)和努森扩散理论的分离因子(1.67),分离效果较好。
%K 溶胶-凝胶法
%K 疏水性
%K 无开裂
%K 分离因子
%K 努森扩散
%U http://jme.biam.ac.cn/CN/10.3969/j.issn.1001-4381.2013.02.016