%0 Journal Article
%T 基体负偏压对类金刚石涂层结构和性能的影响
%A 纪锡旺
%A 许振华
%A 贺莉丽
%A 何利民
%A 郝俊文
%A 甄洪滨
%J 材料工程
%P 43-49
%D 2015
%R 10.11868/j.issn.1001-4381.2015.08.008
%X 采用直流等离子体增强化学气相沉积技术(DC-PECVD),通过控制基体负偏压的变化在YG8硬质合金基体上制备一系列类金刚石涂层。选用扫描电子显微镜、原子力显微镜、拉曼光谱、X射线光电子能谱、粗糙度仪对涂层形貌和结构进行表征测试。同时,利用显微硬度计、划痕测试仪系统地分析涂层的显微硬度和界面结合性能。结果表明随着负偏压增大,涂层表面形貌逐渐平整光滑、致密,颗粒尺寸减小及数量降低。拉曼光谱表明,涂层具有典型的类金刚石结构,涂层中sp3键含量呈先增大后减小趋势,最大值约67.9%出现在负偏压为1000V左右,负偏压过大导致sp3键含量降低。显微硬度随负偏压变化规律与sp3键基本相符,sp3键含量决定显微硬度值大小。负偏压过大对吸附离子产生反溅射作用导致涂层厚度减小。当负偏压为1100V时,涂层与基体间的界面结合性能最优。
%K DC-PECVD
%K 类金刚石
%K 基体负偏压
%K 结构
%K 性能
%U http://jme.biam.ac.cn/CN/10.11868/j.issn.1001-4381.2015.08.008