%0 Journal Article
%T 双层辉光沉积TiN涂层的力学性能研究
%A 陈首部
%A 韦世良
%A 何翔
%A 孙奉娄
%J 中南民族大学学报(自然科学版)
%P 34-37
%D 2009
%X 采用双层辉光离子渗金属技术,在硬质合金YG8基体表面上沉积TiN涂层,通过外观、宏观性能和显微硬度等分析测试,研究了源极到阴极距离、基体温度、辉光放电气压对TiN涂层性能的影响.结果表明:TiN涂层的致密度、均匀性主要受源极到阴极距离的影响,其结合力主要取决于基体温度,而"边缘效应"则主要与辉光放电气压密切相关.双层辉光沉积TiN涂层的优化工艺参数为源极到阴极距离10～12 mm,基体温度750～850 ℃,气压280～340 Pa,所沉积TiN涂层的最高显微硬度可达2 356 HV0.05.
%K 辉光放电
%K TiN涂层
%K 力学性能
%U http://znzk.scuec.edu.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=20090372&flag=1