%0 Journal Article
%T 基片温度对镓钛共掺杂氧化锌
%A 钟志有
%A 张腾
%A 汪浩
%J 中南民族大学学报(自然科学版)
%P 58-64
%D 2013
%X 以镓钛共掺杂氧化锌( GTZO) 陶瓷靶作为溅射源材料，采用射频磁控溅射技术在玻璃基片上制备了GTZO透明导电薄膜，通过X 射线衍射仪( XRD) 、可见-紫外光分光光度计和四探针仪等测试表征，研究了基片温度对GTZO 薄膜晶体结构、电学性质和光学性能的影响.结果表明: 所制备的GTZO 薄膜均为六角纤锌矿结构，并具有( 002) 择优取向，其结晶质量、晶粒尺寸、方块电阻、透过率、光学能隙以及品质因数都与基片温度密切相关，当基片温度为350 ℃时，GTZO 薄膜的品质因数最大，具有最佳的光电综合性能.
%K 氧化锌薄膜
%K 掺杂
%K 光电性能
%U http://znzk.scuec.edu.cn/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=20130115&flag=1