%0 Journal Article
%T 常压CVD法制备氮氧化硅薄膜沉积特性的研究
%A 丁新更
%A 杨辉
%A 孟祥森
%J 硅酸盐学报
%D 2003
%U http://www.jccsoc.com/Magazine/Show.aspx?ID=19748