%0 Journal Article
%T 氮分压对Ta-N薄膜摩擦性能的影响
%A 严学华
%A 尹君
%A 程晓农
%J 硅酸盐学报
%D 2011
%X 在氮气和氩气的混合气氛中，在不同N2分压下，用直流磁控溅射法在Si基片上沉积非晶态Ta-N薄膜。利用X射线衍射仪、原子力显微镜、台阶仪和纳米压痕仪、光学轮廓仪和扫描电子显微镜对沉积的薄膜进行表征。结果表明不同N2分压下沉积的薄膜都有平整且致密的表面，表面均方根粗糙度都较小；随着N2分压的上升，薄膜沉积速率、纳米硬度和弹性模量都随之下降。所制备薄膜在室温、空气环境中具有稳定的滑动摩擦因数；当N2分压为混合气体的10%(体积分数)时，薄膜的摩擦因数最低，仅为0.27，但由于硬度较低，其磨损也相对较为严重。
%U http://www.jccsoc.com/Magazine/Show.aspx?ID=40575