%0 Journal Article
%T 原位形成氧氮玻璃中间层连接Si3N4陶瓷
%A 刘春凤
%A 虞鸿江
%A 林英魁
%A 张杰
%A 叶枫
%A 黄玉东
%J 硅酸盐学报
%D 2013
%X 用Si3N4–Al2O3–Y2O3–SiO2混合粉制备用于连接氮化硅陶瓷的焊料，原位形成以氧氮玻璃为中间层的氮化硅陶瓷接头。研究了连接过程中温度、压力及气氛对陶瓷接头微观组织及性能的影响。结果表明在0.1MPa氩气条件下，接头内含有一定量气孔，氮化硅母材有少量分解；氮气气氛、0.1MPa条件下可保证陶瓷母材稳定、接头致密，在氧氮玻璃中间层均匀分布有β-SiAlON陶瓷相；当氮气气压增大到0.5MPa时，陶瓷接头无法实现有效连接。在较低温度下，当连接压力由0.6MPa增大到1.5MPa时，接头弯曲强度提高；升高温度，接头强度出现峰值，在1550℃时达到最高，连接压力对接头的影响减小；继续增大压力将使液相焊料流出，甚至母材自身发生变形。
%U http://www.jccsoc.com/Magazine/Show.aspx?ID=47821