%0 Journal Article
%T 阴离子对铝酸钠溶液深度脱硅的影响
%A 王雅静
%A 李宏亮
%A 庞常健
%A 翟玉春
%A 张征
%J 过程工程学报
%D 2011
%X 研究了不同阴离子(SO42-,CO32-,Cl-)对铝酸钠溶液深度脱硅的影响.通过对Na2SO4,Na2CO3和NaCl用量、反应温度、时间、Al2O3浓度、溶液苛性比ak、搅拌速度影响的考察，确定了最佳工艺条件.在95℃,Al2O3150g/L,ak=1.5及搅拌速度867r/min条件下脱硅110min后，铝酸钠溶液中硅量指数达2938，在杂质用量30g/L时，含SO42-,CO32-,Cl-溶液的硅量指数分别可达3943,3545和3221.在阴离子浓度为0~70g/L时，SO42-促进溶液深度脱硅，CO32-,Cl-均先促进后抑制脱硅，通过硅渣XRD衍射分析，得到了SO42-,CO32-,Cl-对脱硅影响的变化规律.
%K 铝酸钠溶液
%K 深度脱硅
%K SO42-
%K CO32-
%K Cl-
%U http://www.jproeng.com/qikan/Cpaper/zhaiyao.asp?bsid=16182