%0 Journal Article
%T 铬酸钠溶液中微量铝硅杂质的脱除
%A 郭为
%A 余志辉
%A 王京刚
%A 曲景奎
%A 齐涛
%A 韩晓英
%J 过程工程学报
%D 2011
%X 采用铝硅含量分别为189.65和51.08mg/L的铬酸钠配制溶液，通过常压和高压反应脱除杂质微量铝硅.常压下加入偏铝酸钠调节体系铝硅元素比为6，无需CaO添加剂，60℃下反应40min，几乎可完全脱除杂质硅；在高压釜中通过调节CO2压力为0.4MPa，60℃下反应20min，几乎能完全脱除杂质铝.化学纯铬酸钠脱除铝硅杂质后能达到分析纯级别.高压釜内脱铝的同时铬酸钠发生碳化反应，溶液pH值随反应进行逐渐降低，趋于稳定，显示碳化反应近于平衡.
%K 铬酸钠
%K 偏铝酸钠
%K 脱硅
%K 脱铝
%K 常压
%K 高压
%U http://www.jproeng.com/qikan/Cpaper/zhaiyao.asp?bsid=16239