%0 Journal Article
%T 单分散二氧化硅超细颗粒的制备
%A 王玲玲
%A 方小龙
%A 唐芳琼
%A 杨传芳
%A 刘会洲
%J 过程工程学报
%D 2001
%X 利用3种不同类型的表面活性剂反胶团体系制备SiO2超细颗粒，并与传统的Stober制备方法进行了对比.在阴离子表面活性剂AOT和非离子表面活性剂TritonX-100两类体系中，得到了单分散的SiO2超细颗粒．在AOT体系中颗粒粒径随体系水含量w。的增大而增大；而TritonX-100体系中，颗粒粒径随w。的增大而减小；在阳离子表面活性剂(如CTAB，TOMAC)体系中无法得到SiO2超细颗粒．对不同体系所得颗粒的粒径标准偏差及粒度分布进行了对比，结果表明制备粒径小于100nm的SiO2颗粒，反胶团法明显优于Stober方法，粒径相对标准偏差较低,而对粒径大于100nm的颗粒，Stober方法仍不失为一种很好的制备途径．
%K 二氧化硅
%K 反胶团
%K 超细颗粒
%K 正硅酸乙酯
%K Stober方法
%K 单分散
%U http://www.jproeng.com/qikan/Cpaper/zhaiyao.asp?bsid=956