%0 Journal Article
%T 磁控溅射制备非晶态WO3薄膜的光催化性能
%A 黄佳木
%A 李　璐
%A 刘园园
%A 赵　培
%A 董思勤
%J 化工进展
%D 2010
%X 采用射频反应磁控溅射工艺在玻璃基片上沉积了非晶态WO3薄膜。通过光催化降解亚甲基蓝和罗丹明B溶液实验，研究了所制WO3薄膜的光催化活性和使用寿命。X射线衍射（XRD）分析表明所制备的WO3薄膜为非晶态。光催化实验表明紫外光照3h后，薄膜对亚甲基蓝和罗丹明B溶液的最大降解率分别为83.26%和72.73%。重复使用3次后，薄膜对亚甲基蓝的降解率保持在75%以上，7次使用后薄膜基本丧失光催化活性。采用去离子水超声处理30min的方法可使已失活薄膜对亚甲基蓝的降解率从20%恢复至81%。
%U http://www.hgjz.com.cn/CN/abstract/abstract11199.shtml