%0 Journal Article
%T 含卤高聚物记录材料的研究——不同共聚单体对紫外光敏性的影响
%A 陈柳生
%A 师如光
%J 高分子学报
%P 136-142
%D 1982
%X 研究了与偏二溴乙烯(VDBr,M1)共聚的不同单体(M2)——丙烯酸甲酯(MA)、甲基丙烯酸甲酯(MMA)和苯乙烯(St)的性质和共聚物的序列分布对记录材料紫外光敏性的影响。结果表明,含St的紫外光敏性最高,含MA的较差。对同一类共聚物记录材料而言,光敏性与共聚物的序列分布,主要是P2(M1M2)有对应关系。本文还报道了VDBr与MA、MMA及St在55±0.2℃以偶氮二异丁腈为引发剂的自由基共聚反应竞聚率(r)分别为,VDBr-MAr1=0.72±0.05,r1=0.72±0.05;VDBr-MMAr1=0.50±0.04,r2=1.74±0.04;VDBr-Str1=0.40±0.04,r2=1.12±0.04。
%U http://www.gfzxb.org/CN/abstract/abstract11432.shtml