%0 Journal Article
%T 陶瓷先驱体含锆聚硅烷的电化学合成与表征
%A 花永盛
%A 陈来
%A 李现府
%A 高孟姣
%A 任慕苏
%A 孙晋良
%J 高分子学报
%P 596-601
%D 2011
%R 10.3724/SP.J.1105.2011.10136
%X 采用电化学合成法,以三氯甲基硅烷、氯丙烯、环戊二烯和四氯化锆为单体合成出含锆聚硅烷,通过FTIR,UV,NMR,XRD等表征了其结构.测定了产物的各元素含量和双键含量,以及分子量和分子量分布,并对产物进行了交联固化和高温裂解实验.结果表明,含锆聚硅烷双键保留率为10.8%,锆含量为4.11%.含锆聚硅烷能溶于常见的溶剂,成膜性能良好.双键起到了自交联的作用,无需使用交联剂二乙烯基苯;双键和锆的引入使聚硅烷获得了较高的质量保留率和陶瓷产率,裂解产物主要为β-SiC和ZrC,是优良的陶瓷先驱体.
%K 聚硅烷
%K 双键
%K 锆
%K 电化学合成
%K 陶瓷
%U http://www.gfzxb.org/CN/abstract/abstract13414.shtml