%0 Journal Article
%T 炭黑的“impurity-free”改性及其在聚酰亚胺薄膜中的分散特性研究
%A 刘星
%A 张栋葛
%A 万月
%A 吴国章
%J 高分子学报
%P 876-882
%D 2012
%R 10.3724/SP.J.1105.2012.11381
%X 利用聚酰胺酸(PAA)在研磨过程形成炭黑(CB)的"impurity-free"分散剂制备纳米CB填充聚酰亚胺(PI)高性能复合薄膜.球磨CB和PAA/N-甲基-2-吡咯烷酮(NMP)溶液的混合液,PAA在研磨过程中降解形成活性分子,原位生成与CB表面具有反应活性和强烈物理吸附能力的"impurity-free"分散剂.拉曼、红外以及紫外-可见光吸收光谱证实了降解PAA分子对CB的改性作用.经改性的CB与PAA溶液共混,涂覆固化制备PI/CB复合薄膜.TEM照片表明该分散剂可以显著促进CB粒子在PI基体中的均匀分散,分散粒径约为200nm.力学性能测试和导电性能测试表明PI/CB复合薄膜的断裂伸长率大幅提高,电阻率(ρ)重复性浮动范围从2个数量级降到1个数量级.进一步研究发现,研磨过程中添加高分子量PAA更有利于CB在PI基体中的均匀分散.
%K 聚酰胺酸
%K 炭黑
%K 纳米分散
%U http://www.gfzxb.org/CN/abstract/abstract13746.shtml