%0 Journal Article
%T 尼龙－1010的聚集态结构
%A 黄雪英
%A 莫志深
%A 高焕
%A 王龙泉
%A 牟忠诚
%A 朱诚身
%J 高分子学报
%P 60-64
%D 1994
%X 用ＷＡＸＤ、ＤＳＣ、方差－范围函数．密度测量等方法，研究了经不同热处理的尼龙－１０１０的聚集态结构．发现退火处理更有利于尼龙－１０１０结晶的生成和稳定，且尼龙－１０１０的结晶，有一个最佳的热处理温度．在该温度附近，尼龙－１０１０的结晶度和微晶尺寸里最大值．
%K 尼龙－1010
%K WAXD
%K DSC
%K 方差－范围函数
%K 密度测量
%K 聚集态结构
%K 微晶尺寸
%U http://www.gfzxb.org/CN/abstract/abstract12850.shtml