%0 Journal Article
%T 第五、六族元素的有机化合物在有机合成中应用的研究——ⅩⅤ.含氟膦叶立德的质谱研究
%A 傅桂香
%A 徐永珍
%A 彭荣坤
%A 沈延昌
%A 忻元康
%A 黄耀曾
%J 化学学报
%P 840-845
%D 1982
%X 本文报道11个含氟膦叶立德的电子轰击(EI)质谱和化学电离(CI)正、负离子质谱。前者的断裂机理和一般膦叶立德相似,形成一系列骨架重排离子,而后者只出现(C6H5)2离子。在1～11的CI正离子质谱中,基峰均为[M+H]+,在7～11中还观察到氧重排离子m/β279。CI负离子质谱出现稳定的[M-·C6H5]-离子,化合物7～11的正、负离子质谱都出现特征的炔离子和炔基正离子。
%U http://sioc-journal.cn/CN/abstract/abstract342218.shtml