%0 Journal Article
%T 纳米六方相氮化铝的合成和光学性能研究
%A 颜国君
%A 陈光德
%A 吕惠民
%J 化学学报
%P 1688-1692
%D 2006
%X 报道了以AlCl3和Mg3N2为反应物,在500℃条件下,用简易的设备,合成六方相AlN纳米材料.样品的XRD和XPS图谱表明,实验得到的AlN样品是纯的六方相AlN,其中的杂质相含量均小于仪器的探测灵敏度.TEM图表明,AlN样品呈多孔网络状结构,网络的骨架大小在10～20nm之间.对AlN样品的光学性能的研究表明,AlN样品的禁带宽度值约为6.12eV;红外吸收谱以680cm－1为中心形成一个很宽的红外吸收带;其拉曼散射峰较AlN薄膜和AlN单晶向低波数方向移动.
%K 纳米AlN
%K 合成
%K 光学性能
%U http://sioc-journal.cn/CN/abstract/abstract325471.shtml