%0 Journal Article
%T SiH4与HX(X=F,Cl,Br,I)形成的二氢键复合物的结构特征及本质
%A 刘红陈燕芹王一波
%J 化学学报
%P 301-307
%D 2008
%X 本文就SiH4与HX形成的二氢键复合物的结构特征及本质进行了探讨。在MP2/6-311++G(3d,3p)水平优化、频率验证得到复合物的分子结构，通过分子间距离及电子密度等值线图，我们确认SiH4与卤化氢已形成了二氢键复合物。MP2/6-311++G(3d,3p)水平下进行BSSE校正后的结合能为2.703－4.439KJ/mol。用对称匹配微绕理论(SAPT)对结合能进行分解，分解结果显示，SiH4匟X(X=F,Cl,Br,I)二氢键复合物中静电能对总吸引能的贡献小于28％，并且相对稳定，这就是说SiH4匟X二氢键复合物的本质并非静电作用，而是静电能、诱导能、色散能、交换能对总结合能的贡献都非常重要。
%K 二氢键
%K 对称性匹配微扰理论(SAPT)
%K SiH4
%K 卤化氢
%K 本质
%U http://sioc-journal.cn/CN/abstract/abstract331176.shtml