%0 Journal Article
%T 缓蚀剂对铜作用的激光扫描微区光电化学研究
%A 徐群杰
%A 周国定
%A 陆柱
%A 杨勇
%A 尤金跨
%A 林昌健
%J 化学学报
%P 1079-1084
%D 2000
%X 采用激光扫描微区光电化学显微技术(PEM)对不同浓度下的苯并三氮唑(BTA)及其衍生物4-羧基苯并三唑甲酯与5-羧基苯并三唑甲酯的混合物(CBTME)在硼砂缓冲溶液(pH9.2)中对铜电极的缓蚀作用作了比较研究。研究发现当电位正向扫描至某一电位时，一定浓度的BTA或CBTME作用下，铜电极光响应由p-型转化为n-型，并可依此判断缓蚀剂的缓蚀性能，n-型光响应越大，缓蚀剂的缓蚀性能越好，与循环伏安光电流及交流阻抗测试的结果相一致；实验还发现，影响缓蚀剂对铜作用的过程不仅与缓蚀剂本身有关，还与电极电位有关。在一定的电位与一定的缓蚀剂浓度下可观察到铜电极表面共存着p-型和n-型区域及p转n的过程，因此可从微观上观察到缓蚀剂与铜表面作用的过程，为缓蚀剂的应用建立了良好的理论基础。
%K 缓蚀剂
%K 铜电极
%K 苯并三氮唑
%K 苯并三唑P
%K 甲酯
%K 激光扫描微区光电化学显微技术
%U http://sioc-journal.cn/CN/abstract/abstract336225.shtml