%0 Journal Article
%T 博莱霉素与DNA在镍离子注入修饰电极上的相互作用及其应用
%A 胡劲波
%A 黄清泉
%A 李启隆
%J 化学学报
%P 836-841
%D 2001
%X 博莱霉素(BLM)在0.1mol/LHOAc-NaOAc缓冲溶液(pH4.62)中，在Ni/GCE离子注入修饰电极上有一灵敏的还原峰，峰电位为-1.16V(vs.SCE)，峰电流与BLM浓度有关。用线性扫描和循环伏安法研究体系的行为表明，体系为具有加速作用的不可逆过程，是注入的Ni加速BLM的还原。引入DNA后，BLM的峰电位为-1.15V(vs.SCE),与未加入DNA前几乎完全一致；只使峰电流降低，形成一种非电活性的结合物，求得该结合物的结合比为BLMDNA=31，结合常数为β=3.16×10^16，用线性扫描和循环伏安法，并辅以紫外可见光谱法等手段研究表明，电极过程仍为不可逆过程，与未加入DNA时一样。加入DNA后，BLM的峰电流降低，可用于DNA的测定，回收率在96.8～103.9%之间.
%K 博莱霉素
%K 离子注入
%K 镍离子
%K 电极
%K 表面分析
%K 循环伏安法
%K 脱氧核糖核酸
%K 相互作用
%U http://sioc-journal.cn/CN/abstract/abstract337130.shtml