%0 Journal Article
%T 六氰合铁酸铜钴薄膜修饰铂电极的电化学、XRD及XPS研究
%A 崔兴品
%A 汪夏燕
%A 张雷
%A 林祥钦
%J 化学学报
%P 704-710
%D 2002
%X 采用循环伏安法在铂电极上电聚合了六氰合铁酸铜钴薄膜，并用电化学、XRD和XPS对该薄膜进行了表征。研究表明此薄膜属于取代型的多核六氰合铁酸盐，由Cu~(2+)，Co~(2+)和Fe~(2+)共同占据晶格格点。通过改变Cu~(2+)，Co~(2+)和Fe~(3+)在沉积液中的比例可以改变聚合膜的性质。随沉积液中Cu~(2+)含量的增加，聚合膜中铜的含量相应增加而晶格常数则逐渐减小，但保持着面心立方的晶格对称性。当沉积液中Cu~(2+)Co~(2+)Fe~(3+)=112时，得到的聚合膜具有比较典型的性质，该薄膜修饰的铂电极在pH4～10之间均能保持着稳定的电化学响应。其对一价阳离子的选择性顺序为K~+>Li~+>Na~+>NH_4~+，与单组分的六氰铁酸酮和六氰合铁酸钴都存在着较大的差别。XPS实验表明氧化态薄膜中铁元素以Fe(III)存在，并且在X射线的照射下很快转化为Fe(II)。
%K 铁酸盐
%K 化学修饰电极
%K X射线衍射分析
%K X射线光电子谱法
%U http://sioc-journal.cn/CN/abstract/abstract326231.shtml