%0 Journal Article
%T 化学成份在钧瓷胎釉反应层中分布模式的线扫描分析
%A 李清临
%A 徐承泰
%A 贺世伟
%A 姚政权
%J 化学学报
%P 912-918
%D 2011
%X 利用能量色散X射线荧光(EDXRF)探针,对一批金元时期的钧瓷样品进行了线扫描分析,以研究钧瓷胎釉间薄层物质的性质及其它相关问题.结果显示,胎釉间薄层物质的化学组成介于胎釉之间,因此其应为在烧制过程中形成的反应层.分析还发现,反应层中的K2O含量高于瓷釉和瓷胎,与其它氧化物均有不同.推断反应层中K2O含量高的现象,是瓷釉和反应层中特定的SiO2和Al2O3组成,硅酸盐玻璃的特定网络结构,以及SiO2,Al2O3及K2O在玻璃体中的作用和特性等因素的综合作用结果,而非单纯的K＋具有较强的渗透能力所致.
%K 钧瓷
%K 反应层
%K 化学成份
%K 线扫描
%K EDXRF
%U http://sioc-journal.cn/CN/abstract/abstract339918.shtml