%0 Journal Article
%T 石墨烯掺杂的研究进展
%A 张芸秋
%A 梁勇明
%A 周建新
%J 化学学报
%P 367-377
%D 2014
%R 10.6023/A14020093
%X 石墨烯的p型和n型掺杂调控对于石墨烯基功能器件的构筑至关重要.近年来，随着化学气相沉积（CVD）石墨烯技术的发展和广泛应用，CVD石墨烯掺杂技术及相应性能调控的研究也取得了极大进展.本文主要介绍了近几年来石墨烯，特别是CVD生长石墨烯掺杂研究的发展，讨论了金属电极接触、气体小分子吸附、氧化性及还原性极性分子吸附及晶格掺杂等多种石墨烯掺杂的方法，同时介绍了近期出现的对双层石墨烯能带调控以及制造石墨烯p-n结的研究，展望了石墨烯掺杂对于其功能器件研究的作用和发展前景.
%K 石墨烯
%K 掺杂
%K 半导体
%K 带隙
%U http://sioc-journal.cn/CN/abstract/abstract344360.shtml