%0 Journal Article
%T 反应溅射非晶态氧化铝薄膜
%A 楼翰一
%A 朱圣龙
%A 王福会
%A 吴维(?)
%J 金属学报
%P 150-153
%D 1991
%X 研究了平面磁控直流反应溅射法沉积氧化铝薄膜的过程。结果表明氧分压大小对反应溅射过程有决定性作用,当氧分压增大或减小过程中存在两个阈值。氧分压小于阈值为金属Al溅射区,大于阈值为氧化铝溅射区。在阈值附近总气压、溅射电压和沉积速率发生突变,溅射特性(V-J)曲线有不同规律。沉积的氧化铝膜为非晶态,高温下可晶化,本文还讨论了反应溅射的机理。
%K 氧化铝膜
%K 非晶态膜
%K 反应溅射
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y1991/V27/I3/150