%0 Journal Article
%T 用正电子湮没技术研究硼在Ni_3Al中的存在形式
%A 邓文
%A 熊良钺
%A 龙期威
%A 王淑荷
%A 郭建亭
%J 金属学报
%P 21-24
%D 1992
%X 本文用正电子湮没技术(PAT)研究了不同硼含量的单晶和多晶Ni_3Al中硼原子的存在形式。在Ni_3Al合金中加入少量硼(≤1.37％)时,一部分硼原子以间隙方式溶解到基体中,使晶格发生畸变,导致基体中正电子寿命(τ)增长;另一部分硼偏聚到空位型缺陷上,产生“填充效应”,导致平均寿命■和S参数下降。硼量为2.22at.-％时,缺陷态的τ显著增长,■和S参数增大,表明在晶界成晶内析出硼化物,诱发了较多的自由体积较大的缺陷。
%K Ni_3Al
%K 正电子湮没
%K 硼含量
%K 缺陷
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y1992/V28/I10/21