%0 Journal Article
%T 等离子体化学气相沉积Ti-N-C膜的研究
%A 赵程
%A 彭红瑞
%A 李世直
%J 金属学报
%P 87-92
%D 1993
%X 用XPS,AES,XRD,SEM及显微硬度计分析和测试了不同成分的等离子体化学气相沉积(PCVD)Ti—N—C膜,并与PCVD一TiN膜比较。认为Ti—N—C膜优异的耐磨性可归因于高显微硬度及致密的结构。AES及XPS分析结果表明,Ti—N—C与TiN膜表面吸附的氧原子价态不同,其决定因素是膜晶格中是否有足够的碳原子存在。氧吸附态的不同可能导致不同的磨损失效方式。
%K 等离子体化学气相沉积(PCVD)
%K Ti-N-C膜
%K TiN膜
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y1993/V29/I1/87