%0 Journal Article
%T 离子注入Cu薄膜的氧化行为研究
%A 赵新清
%A 柳百新
%J 金属学报
%P 1187-1191
%D 2000
%X 研究了用强流金属蒸汽弧离子源（ＭＥＶＶＡ源）注入Ｃｒ对Ｃｕ薄膜的抗氧化性能、导电性能和氧化特征的影响.利用Ｘ射线衍射、Ｒｕｔｈｅｒｆｏｒｄ背散射和扫描电镜离子注入前后氧化物结构和氧化物形态演变.结果表明,在薄膜的表面层注入一定剂量的Ｃｒ能有效地改善Ｃｕ薄膜的抗氧化性能,而对薄膜的电导性能无显著影响；离子注入显著影响薄膜表面氧化铜的结构和形态.探讨了离子注入对氧化铜结构和形态的影响机理.
%K Cu薄膜
%K 离子注入
%K Cr
%K 氧化
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y2000/V36/I11/1187