%0 Journal Article
%T 高结晶度CrN纳米粒子掺杂的DLC薄膜的显微结构及力学性能
%A 吴忠振
%A 田修波
%A 程思达
%A 巩春志
%A 杨士勤
%J 金属学报
%P 283-288
%D 2012
%R 10.3724/SP.J.1037.2011.00512
%X 采用高功率脉冲磁控放电等离子体注入与沉积(HPPMS-PIID)和常规直流磁控溅射复合的方法设计制备了包含高结晶度的CrN纳米粒子的DLC薄膜,并对不同C靶电流时制备的CrN-DLC薄膜的形貌、结构及性能进行了研究.结果表明,随C靶电流的增加,薄膜中的含C量增加,在较高的C含量时形成了明显的DLC薄膜特征,掺杂相主要成分为高度200择优取向的CrN纳米晶,其最小晶粒尺寸为42.39nm.薄膜中的C主要以C-sp2,C-sp3和CN-sp3键的形式存在,sp3键的总含量为sp2总含量的44.8%.所制备的薄膜具有很好的膜基结合力(临界载荷Lc=66.8N)和较高的纳米硬度(最高达24.3GPa).
%K 高功率脉冲磁控放电
%K 类金刚石薄膜
%K CrN
%K 结晶度
%K 力学性能
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y2012/V48/I3/283