%0 Journal Article
%T (Ti,Al)N涂层应力沿层深分布的调整及大厚度涂层的制备
%A 赵升升
%A 程毓
%A 常正凯
%A 王铁钢
%A 孙超
%J 金属学报
%P 277-282
%D 2012
%R 10.3724/SP.J.1037.2011.00504
%X 利用电弧离子镀技术在不锈钢基体上制备了(Ti,Al)N涂层,研究了N2分压改变对涂层残余应力沿层深分布及相关力学性能的影响.结果表明,低N2分压下,(Ti,Al)N涂层残余应力沿层深分布较均匀,随N2分压的增加,涂层应力沿层深呈“钟罩型”分布,且全膜厚的应力值也明显增大;通过对涂层生长结构及微观成分分析,初步探讨了应力分布机理.随N2分压的增加,涂层硬度会显著增加,而膜/基结合力则大幅下降;采用改变N2分压工艺制备(Ti,Al)N涂层,可有效调整涂层残余应力沿层深分布趋势,改善其力学性能,并可成功制备厚度在130μm以上的硬质涂层.
%K (Ti
%K Al)N
%K 硬质涂层
%K 应力分布
%K 调整应力
%K N2分压
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y2012/V48/I3/277