%0 Journal Article
%T Si含量对电弧离子镀Ti-Al-Si-N薄膜组织结构和力学性能的影响
%A 时婧
%A 裴志亮
%A 宫骏
%A 孙超
%A MUDERS
%A C
%A M
%A 姜辛
%J 金属学报
%P 1349-1356
%D 2012
%R 10.3724/SP.J.1037.2012.00328
%X 利用磁过滤电弧离子镀技术在高速钢基体上制备了不同Si含量的Ti-Al-Si-N薄膜,研究了Si含量对薄膜组织结构以及力学性能的影响.结果表明,Ti-Al-Si-N薄膜主要由晶态TiAlN和非晶态的Si3N4组成,随着Si含量的增加,XRD衍射峰强度减弱,晶粒尺寸减小;薄膜的显微组织也由明显的柱状晶转变为致密的纳米晶结构.利用纳米硬度仪对薄膜的硬度和弹性模量进行了分析,结果表明,薄膜的硬度和弹性模量有着相似的变化趋势,随着Si含量的增加,两者都先增加,当Si含量达到一定程度时,它们会逐渐稳定在一定范围内,而后又随Si含量的继续增加呈下降趋势.通过划痕测试对薄膜结合强度进行了分析,结果表明,薄膜与基体的结合强度随Si含量的增加先减小而后增加.
%K 磁过滤电弧离子镀
%K Ti-Al-Si-N薄膜
%K 纳米硬度
%K 结合强度
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y2012/V48/I11/1349