%0 Journal Article
%T 温度对电沉积纳米孪晶Ni显微结构及纳米压痕力学性能的影响
%A 成宇浩
%A 张跃飞
%A 毛圣成
%A 韩晓东
%A 张泽
%J 金属学报
%P 1342-1348
%D 2012
%R 10.3724/SP.J.1037.2012.00241
%X 在镀液成分、pH值、沉积电流密度和脉冲占空比等工艺参数不变的条件下,利用脉冲电沉积技术在镀液温度分别为30,50和80℃时制备了包含高密度纳米孪晶片层结构的纳米晶Ni薄膜.利用SEM,XRD和TEM研究了镀液温度对纳米孪晶Ni薄膜的沉积速率、择优取向、晶粒尺寸、孪晶片层特征尺寸(长度和厚度)以及生长规律的影响;利用HRTEM揭示了纳米孪晶Ni的孪晶界面微观结构特征,利用纳米压痕技术研究了温度对Ni薄膜纳米压痕硬度的影响.研究结果表明脉冲电沉积纳米孪晶Ni薄膜的生长速率在20-30nm/s之间,镀液温度为30和50℃时Ni薄膜沿(220)面择优生长,80℃时转变为沿(200)面择优生长;随着镀液温度的升高,Ni薄膜的平均晶粒尺寸由900nm减小到300nm,晶粒内部孪晶片层的厚度由60nm降低到28nm;50℃时纳米孪晶Ni薄膜的纳米压痕硬度平均值最高,达3.75GPa.
%K 电沉积
%K 纳米孪晶Ni
%K 显微结构
%K 纳米压痕硬度
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y2012/V48/I11/1342