%0 Journal Article
%T 对向靶溅射TiN薄膜的结构和物性
%A 刘裕光
%A 姜恩永
%A 程启
%A 孙长庆
%J 金属学报
%P 31-34
%D 1995
%X 利用对向靶溅射（ＦＴＳ）沉积出（１１１）择优取向的单相ＴｉＮ膜，膜硬度（ＨＶ）最高可达３８００，择优取向随基板偏压增高，可由（１１１）转向（２００），晶格常数随氮气分压增高而增大，这是氮原子进入四面体间隙引起的。
%K ＴｉＮ薄膜
%K 对向靶溅射
%K 织构系数
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y1995/V31/I13/31