%0 Journal Article
%T 弥散CeO_2对高温下α-Al_2O_3氧化膜初期生长的影响
%A 马信清
%A 李美栓
%A 彭晓
%A 陈全芳
%A 李铁藩
%J 金属学报
%P 399-405
%D 1995
%X 在研究１０００及１１００℃下含弥散ＣｅＯ_２的ＮｉＡｌ基表面α─Ａｌ_２Ｏ_３氧化膜初期生长的微观形貌及化学组成的基础上，分析了弥散氧化物质点对氧化初期表层扩散通量的影响，解析出了氧化物质点对表层元素扩散通量的贡献项，进而研究了氧化温度、弥散氧化物质点的尺寸、含量及分布等因素对弥散氧化物质点促进Ａｌ_２Ｏ_３形成的影响，并解释了突出颗粒状生长等实验结果。同时，探讨了弥散氧化物质点促进保护性氧化膜形核和增强氧化膜再生能力的机制。
%K 弥散氧化物
%K ＣｅＯ_２
%K α－Ａｌ_２Ｏ_３膜
%K 初期氧化
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y1995/V31/I21/399