%0 Journal Article
%T 基材温度对离子镀TiN膜性能的影响
%A 于力
%A 刘技文
%A 赵杰
%A 戴少侠
%A 金柱京
%A 王慧君
%J 金属学报
%P 1270-1274
%D 1996
%X 利用空心阴极离子镀膜设备制备了不同基材加热温度（１５０，２５０，３５０和４５０℃）的ＴｉＮ膜．对其硬度和耐磨性的检测结果表明，随着基材温度的升高，ＨＶ呈缓慢上升趋势；耐磨性基本一致．同时，通过Ｘ射线衍射及扫描电子显微镜的观察，探讨了基材温度对其性能及组织形貌的影响．
%K ＴｉＮ膜
%K 离子镀
%K 基材温度
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y1996/V32/I12/1270