%0 Journal Article
%T 射频磁控溅射沉积氮化碳薄膜的结构和成键性质
%A 郭建东
%A 李银安
%A 赵汝文
%A 王恩哥
%J 金属学报
%P 439-442
%D 1999
%X 利用反应性质频磁控溅射在Ｓｉ（１００）单晶衬底上沉积氮化碳薄膜,并系统地了薄膜的结构,成分及化学键等信息.Ｘ射线衍射分析表明,制备的氮化碳薄膜具有非晶结构.红外吸收谱说明薄膜中碳,氮原子结构成化学键.
%K 氮化碳薄膜
%K 射频磁控溅射
%K 沉积
%K 结构
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y1999/V35/I4/439