%0 Journal Article
%T 用扫描电镜直接观察变形材料中的位错结构──[001]取向铜单晶疲劳位错结构的研究
%A 宫波
%A 陈道伦
%A 苏会和
%A 王中光
%J 金属学报
%P 561-565
%D 1997
%X 用扫描电镜（SEM）的电了通道讨度（ECC）技术研究了[001]取向铜单晶中的疲劳位错结构结果表明，SEMECC技术不仅可以真实地、全面地显示疲劳位错组态，而且还揭示了表面出现的宏观形变带与位错结构的对应关系.
%K 扫描电镜
%K 电子通道衬度技术
%K 铜单晶体
%K 位错结构
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y1997/V33/I6/561