%0 Journal Article
%T CVD金刚石薄膜及膜-基界面形态
%A 匡同春
%A 刘正义
%A 周克崧
%A 王德政
%A 代明江
%J 金属学报
%P 305-312
%D 1998
%X 采用直流等离子体财流CVD法在硬质合金基体上沉积了多晶金刚石薄膜，借助XRD、Raman光谱、SEM和EPMA等对金刚石薄膜及膜-基界面的结构、形貌和成分进行了研究.结果表明，结晶度高的刻面型金刚石薄膜质量、纯度较好，膜-基界面处较致密，机械锚固作用明显，结合性能较好沉积前后基体表面形貌变化很大，存在数十微米厚的脱钴-等离子体刻蚀层，等离子体刻蚀导致脱钻表面更加凹凸不平，为金刚石形核提供了有利条件.
%K CVD金刚石薄膜
%K 界面
%K 结合性能
%K 形态
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y1998/V34/I3/305