%0 Journal Article
%T 脉冲偏压对电弧离子镀Ti/TiN纳米多层薄膜显微硬度的影响
%A 赵彦辉
%A 林国强
%A 李晓娜
%A 董闯
%A 闻立时
%J 金属学报
%P 1106-1110
%D 2005
%X 采用脉冲偏压电弧离子镀方法在高速钢基体上沉积Ti/TiN纳米多层薄膜，采用正交实验法设计脉冲偏压电参数，考察脉冲偏压对Ti/TiN纳米多层薄膜显微硬度的影响。结果表明,在所有偏压参数(脉冲偏压幅值、占空比和频率)和几何参数(调制周期和周期比)中,脉冲偏压幅值是影响显微硬度的最主要因素；当沉积工艺中脉冲偏压幅值为900V、占空比为50%及频率为30kHz时,薄膜硬度可高达34.1GPa,此时多层膜调制周期为84nm，TiN和Ti单元层厚度分别为71和13nm；由于薄膜中的单层厚度较厚,纳米尺寸的强化效应并未充分体现于薄膜硬度的贡献中，硬度的提高主要与脉冲偏压工艺，尤其是脉冲偏压幅值对薄膜组织的改善有关。
%K 脉冲偏压
%K 电弧离子镀
%K Ti/TiN纳米多层薄膜
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y2005/V41/I10/1106