%0 Journal Article
%T Cu/X(X=Cr,Nb)纳米多层膜力/电学性能的尺度依赖性
%A 张金钰
%A 张欣
%A 牛佳佳
%A 刘刚
%A 张国君
%A 孙军
%J 金属学报
%P 1348-1354
%D 2011
%R 10.3724/SP.J.1037.2011.00246
%X 利用纳米压痕实验以及四探针法,系统研究了相同层厚Cu/X(X=Cr,Nb)纳米金属多层膜的力学性能(强/硬度)和电学性能(电阻率)的尺度依赖性.微观分析表明Cu/X(多层膜调制结构清晰,Cu层沿{111}面择优生长,X(层沿{110}面择优生长.纳米压入结果表明,Cu/X(多层膜的强度依赖于调制周期,并随调制周期的减小而增加.多层膜变形机制在临界调制周期(λc≈25nm)由Cu层内单根位错滑移转变为位错切割界面.多层膜的电阻率不仅与表面/界面以及晶界散射相关,而且在小尺度下受界面条件显著影响.通过修正的FS-MS模型可以量化界面效应对多层膜电阻率的影响.Cu/$X$纳米多层膜可以通过调控微观结构实现强度-电导率的合理匹配.
%K Cu/Cr
%K Cu/Nb
%K 纳米多层膜
%K 强度
%K 电阻率
%K 尺寸效应
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y2011/V47/I10/1348