%0 Journal Article
%T N2流量对HIPIMS制备TiSiN涂层结构和力学性能的影响*
%A 王振玉
%A 徐胜
%A 张栋
%A 刘新才
%A 柯培玲
%A 汪爱英
%J 金属学报
%P 540-546
%D 2014
%R 10.3724/SP.J.1037.2013.00698
%X 采用高功率脉冲磁控溅射(HIPIMS)技术在N2流量为10~50mL/min下沉积TiSiN涂层,利用台阶仪,XRD,XPS,SPM,SEM,HRTEM和纳米压痕仪对涂层的沉积速率、相结构、成分、形貌和力学性能进行了分析,并研究了不同N2流量对等离子体放电特性的影响.结果表明,在不同N2流量下,TiSiN涂层均具有非晶Si3N4包裹纳米晶TiN复合结构,涂层表面粗糙度Ra为0.9~1.7nm;随N2流量的增加,等离子体的放电程度减弱,离化率降低,TiSiN涂层沉积速率降低,其Ti含量逐渐降低,Si含量逐渐增加,但变化幅度较小;涂层择优取向随N2流量的增加发生改变,晶粒尺寸逐渐增大,硬度和弹性模量逐渐降低,涂层硬度最高为(35.25±0.74)GPa.
%K 高功率脉冲磁控溅射
%K TiSiN涂层
%K 放电特性
%K 复合结构
%K 力学性能
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y2014/V50/I5/540