%0 Journal Article
%T TiVCN复合膜的微结构、力学性能与摩擦磨损性能研究
%A 许俊华
%A 曹峻
%A 喻利花
%J 金属学报
%P 555-560
%D 2012
%R 10.3724/SP.J.1037.2011.00724
%X 采用多靶磁控溅射技术,分别利用不同V靶功率和石墨靶功率制备一系列不同V含量和C含量的TiVN和TiVCN复合膜.利用X射线衍射仪、纳米压痕仪、高温摩擦磨损仪研究了TiVN和TiVCN复合膜的微结构、力学性能及室温和高温摩擦磨损性能.研究表明,当V靶功率为60W时,TiVN薄膜的硬度达到最大值,为25.02GPa.在此基础上逐渐加入C元素,当石墨靶功率为20W时,TiVCN薄膜的硬度达到最大值,为28.51GPa.当石墨靶功率进一步增加,薄膜的硬度值开始逐渐降低.室温下,随着石墨靶功率的增加,TiVCN薄膜的摩擦系数逐渐减小.高温下,TiVCN复合膜的摩擦系数随着温度的升高先增加后减小,在700℃时获得最小值,当温度继续升高摩擦系数又增加.讨论了高温下TiVCN复合膜Magneli相的作用和自适应机制.
%K TiVCN
%K 磁控溅射
%K 力学性能
%K 摩擦磨损性能
%K Magneli相
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y2012/V48/I5/555