%0 Journal Article
%T Si对高Nb-TiAl合金组织及室温拉伸性能的影响*
%A 杨亮
%A 高叔博
%A 王艳丽
%A 叶腾
%A 宋霖
%A 林均品
%J 金属学报
%P 859-865
%D 2015
%R 10.11900/0412.1961.2015.00075
%X 研究硅化物(Nb5Si3相)析出对高Nb-TiAl合金组织及室温拉伸性能的影响.实验结果表明,硅化物脱溶析出温度在1000~1200℃之间,析出物位于片层团晶界处、b(B2)相偏析处以及片层之间.添加Si元素后,合金室温拉伸性能有所增加.因为Nb5Si3相的形成使得b(B2)相稳定元素Nb含量下降,导致脆性相b(B2)相体积减少.但是,含Si高Nb-TiAl合金经过热处理后,室温拉伸性能随热处理温度提高而逐步降低.因为沿片层析出的硅化物会导致裂纹沿片层产生与增殖,而且应力会导致硅化物进一步析出,加速裂纹扩展.而且,Si的加入会导致g相区扩大,在1280~1300℃之间形成g单相区.硅化物析出在片层边界处,会导致块状g+b(B2)相组织,脆化晶界;而硅化物析出在片层内部会导致二次g板条形成,割裂了初始片层组织.
%K 高Nb-TiAl合金
%K Si合金化
%K 组织演变
%K 室温拉伸性能
%U http://www.ams.org.cn/CN/Y2015/V51/I7/859