%0 Journal Article
%T 恒定磁场阻垢除垢的分子动力学模拟
%A 熊兰
%A 陈加鹏
%A 屈涌杰
%A 杨子康
%A 李俊伟
%A 何为
%J 高电压技术
%P 1603-1609
%D 2015
%R 10.13336/j.1003-6520.hve.2015.05.025
%X 磁场的阻垢除垢机理研究不足阻碍了该法的实际应用。为了进一步认识恒定磁场的阻垢除垢机理，研究了不同磁感应强度、不同温度下的阻垢除垢效果。建立模型A和模型B，其中模型A是含少量钙离子和碳酸根离子的水溶液，模型B是包含方解石(10)晶面与水接触的混合体系。用分子动力学软件MaterialExplorer5.0研究在改变磁感应强度和体系温度下，模型A、B分别表现出的阻垢除垢效果。结果表明对于模型A，只有温度<323K时，磁场的作用下才能表现出阻垢效果，而且磁感应强度与模型温度的不同组合会导致3种趋势阻垢、促垢、无变化。对于模型B，在磁感应强度与温度改变多次组合后，并未发现有导致水垢被溶解的情形。由此可得恒定磁场的除垢效果缺乏机理的支撑。
%K 磁场阻垢
%K 磁场除垢
%K 分子动力学
%K 径向分布函数
%K 峰值坐标
%K 峰值强度
%K Material
%K Explorer
%U http://hve.epri.sgcc.com.cn/CN/abstract/abstract217.shtml