%0 Journal Article
%T 全化学溶液法制备SrTiO3缓冲层
%A 罗清威
%J 科技导报
%P 32-35
%D 2014
%R 10.3981/j.issn.1000-7857.2014.25.004
%X 化学法制备SrTiO3薄膜成本低、效率高，适合用于YBa2Cu3O7-δ（YBCO）涂层导体的缓冲层。采用全化学溶液沉积法在Ni-5W金属基带上外延生长了SrTiO3（STO）缓冲层薄膜。以乙酸盐、钛酸丁酯为原料配制均匀稳定的STO种子层、LaxSr1-xTiO3种子层和STO缓冲层前驱溶液。研究了STO种子层薄膜厚度对在STO/Ni-5W（200）上沉积STO外延薄膜性能的影响，结果表明，在880℃烧结温度下制备的3层STO种子层上可以制备出表面光滑平整、具有（200）择优取向的STO缓冲层。尝试将La元素掺入STO中制得稳定的LSTO前驱液，在LSTO/Ni-5W结构上制备了具有（200）择优取向的STO缓冲层薄膜，可作为YBa2Cu3O7-δ涂层导体的缓冲层。
%K 化学溶液法
%K 缓冲层
%K 种子层
%U http://www.kjdb.org/CN/abstract/abstract11992.shtml