%0 Journal Article
%T 场致发射硅尖阵列的研制
%A 吴海霞
%A 仲顺安
%A 李文雄
%A 邵雷
%A 鲁雪峰
%J 北京理工大学学报
%D 2003
%X 研究真空微电子器件场致发射硅尖阵列的制作工艺.利用HNA湿法腐蚀工艺制作场致发射硅尖阵列,比较带胶腐蚀与不带胶腐蚀的不同.采用氧化削尖技术对硅尖进行锐化处理.制作了50×60硅尖阵列,同时给出了硅尖阵列的I-V特性.利用HNA湿法腐蚀制备的硅尖结构与理论分析一致,锐化处理改善了硅尖阴极阵列的场致发射特性.
%K 真空微电子器件
%K 湿法腐蚀
%K 场致发射阴极阵列
%K 硅尖
%U http://journal.bit.edu.cn/zr/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=20030527&flag=1