%0 Journal Article
%T 离子辅助反应蒸发技术室温制备ITO薄膜
%A 喻志农
%A 相龙锋
%A 薛唯
%A 王华清
%A 卢维强
%J 北京理工大学学报
%D 2007
%X 室温下利用离子辅助反应蒸发法在玻璃衬底上制备高透射比、低电阻率的ITO透明导电薄膜.实验结果表明离子辅助蒸发可以有效地降低制备温度,提高薄膜的光电特性,薄膜具有明显的(222)择优取向,晶体粒子尺寸约为21nm;离子源屏压、通氧量及沉积速率是影响薄膜光电特性的主要因素.室温制备的ITO薄膜电阻率为2.4×10-3Ω.cm,可见光平均透射比大于82%.
%K 离子辅助反应蒸发技术
%K 室温
%K ITO薄膜
%U http://journal.bit.edu.cn/zr/ch/reader/view_abstract.aspx?file_no=20071018&flag=1